专利名称： 超强低温瓷制造方法
公开（告）号： CN1281546
申请（专利）号： CN200410022152.8
发明（设计）人： 曹文彪;杨雪梅;金科名
(申请)专利权（人）： 重庆锦晖陶瓷有限公司
内容：（摘要） 本发明属于日用陶瓷制造技术领域，涉及坯料和釉料新配方，利用略低于炻瓷的釉烧温度，烧制出高于硬质瓷强度的日用瓷。坯料配方为：二氧化硅53-58％，三氧化二铝32-38％，氧化钙5-10％，氧化镁2-3％，氧化钾2-6％，氧化钠1.5-4％。釉料配方为：二氧化硅58-65％，三氧化二铝15-18％，氧化钙 16-20％，氧化镁3-5％，氧化钠1-3％，氧化锶2-5％，氧化钡1.5-3％，氧化钾 2-5％，氧化锂1.5-3％。本发明降低釉烧温度和时间，提高质量，节约能耗，降低成本。
